SETO 1.67 LENTS POTOCHROMIC SHMC

1) Què és el recobriment de spin?

El recobriment de spin és un procediment utilitzat per dipositar pel·lícules primes uniformes sobre substrats plans. Normalment s’aplica una petita quantitat de material de recobriment al centre del substrat, que gira a baixa velocitat o no gira en absolut. El substrat es gira a la velocitat fins a 10.000 rpm per difondre el material de recobriment per força centrífuga. Una màquina que s’utilitza per al recobriment de spin s’anomena revestiment de spin, o simplement spinner.
La rotació es continua mentre el fluid gira per les vores del substrat, fins que s’aconsegueix el gruix desitjat de la pel·lícula. El dissolvent aplicat sol ser volàtil i s’evapora simultàniament. Com més alta sigui la velocitat angular de la filatura, més fina és la pel·lícula. El gruix de la pel·lícula també depèn de la viscositat i la concentració de la solució i del dissolvent. Emslie et al., I han estat ampliats per molts autors posteriors (inclosos Wilson et al. Descripció universal per predir el gruix del film dipositat).
El recobriment de spin s’utilitza àmpliament en la microfabricació de capes d’òxid funcional en substrats de vidre o de cristall únic mitjançant precursors de sol-gel, on es pot utilitzar per crear pel·lícules primes uniformes amb gruixos de nanoescala. [6] S'utilitza intensament en fotolitografia, per dipositar capes de fotoresist aproximadament 1 micròmetre de gruix. El fotoresista es gira normalment a 20 a 80 revolucions per segon durant 30 a 60 segons. També s’utilitza àmpliament per a la fabricació d’estructures fotòniques planes fetes de polímers.
Un dels avantatges per girar pel·lícules primes és la uniformitat del gruix de la pel·lícula. A causa de l’auto-nivell, els gruixos no varien més d’un 1%. No obstant això, les pel·lícules de polímers i fotoresistes més gruixudes de recobriment de spin poden donar lloc a perles de vora relativament grans la planarització de les quals té límits físics.